Описание

Серия установок IonScan компании MicroSystems открывает новые возможности для сверхточной подгонки толщины пленок и ионно-лучевого структурирования в полупроводниковой технологии, МЭМС и оптике.

В IonScan используется сфокусированный ионный луч, который сканирует подложку с точно регулируемым положением, скоростью и параметрами луча (пучка), для уменьшения толщины пленки и/или поверхностных погрешностей контура до масштаба субнанометров. Хорошие характеристики серии IonScan достигаются благодаря использованию очень стабильных и надежных ионно-лучевых источников, алгоритма профилирования и сканирования, а также точности высокоэффективной системы линейного перемещения.

Отличительные особенности:

• Частотная подгонка и подгонка толщины пленки
• Оптимизация распределения погрешностей (толщина слоя, частота резонанса, форма, ...) 
• Ионно-лучевые процессы доступны для большинства материалов (Si, SiO2, Si3N4, SiC, AlN, Al2O3, WC, CaF2 и таких металлов как Cu, Al, Ni, NiFe, …)
• Равномерная подгонка толщины пленки до σ< 0.5 нм
• Высокая производительность, до 200 мм³/ч
• Модель IonScan 800 может обрабатывать стандартные кассеты SEMI

Области применения:

• Бесконтактная подгонка толщины пленки в производстве MEMS/MOEMS компонентов и датчиков
• Утонение пленок (частотная подгонка) для фильтров (BAW - приборов на объёмных акустических волнах, SAW - приборов на поверхностных акустических волнах)
• Подгонка тонкоплёночных магнитных головок (TFH)
• Подгонка тонкоплёночных резисторов (TFR)
• Коррекция неровностей на пластинах после химико-механической полировки (CMP)
• Ионно-лучевая шлифовка (IBF) оптических деталей, в особенности дорогостоящей оптики (плоской, сферической, асферической и любой другой формы)
• Ионно-лучевая шлифовка (IBF) крупногабаритных оптических зеркал и рентгеновских зеркал для магнитотормозного излучения
• Ионно-лучевая шлифовка асферических кремниевых линз диаметром 35 мм (размеры по x/yв мм, колометрическая шкала в нм).

Технические характеристики