Описание:

Платформа LabSpin SUSS MicroTec‘s представляет собой последнее поколение систем нанесения/проявления фоторезиста с ручным управлением, разработанных специально для лабораторий и НИИ. Система LabSpin предназначена для работы с целым рядом химических веществ и обеспечивает однородные, точные и воспроизводимые результаты нанесения благодаря улучшенному дизайну рабочей камеры.

Идеальное решение для нанесения покрытий в лабораторных условиях и процессов проявления

Необходимый вакуум для держателя создается внутри установки с помощью сопла Вентури и подаваемого сжатого воздуха, поэтому необходимость в дополнительном вакуумном насосе отсутствует (оператор может изменить конфигурацию для внешней подачи вакуума).

Независимо от выбранной конфигурации в основе каждой системы LabSpin лежит признанный опыт и качество продукции компании SUSS.

 

Широкий выбор опций для целого ряда применений:

• нанесение фоторезиста, опционно с:
  • шприцем или автоматической системой нанесения
  • системой удаления наплывов резиста с края пластин
• нанесение покрытия на кромки
• проявление поливом

 

Вам нужны	Решения LABSPIN
Широкий выбор процессов	Нанесение с помощью центрифуги Проявление поливом Сушка
Гибкость	Регулируемое положение подачи фоторезиста позволяет добиться нанесения по центру и по краям пластины Проявление поливом  благодаря колебаниям держателя  уменьшает время проявления Возможность удаления застывшего фоторезиста с краев пластины
Простота эксплуатации	ПО с сенсорной панелью обеспечивает простую и комфортную эксплуатацию Съемная чаша для быстрой смены процессов без перекрестного загрязнения
Надежность и безопасность	Непосредственно связанный двигатель с полым валом с вакуумным стеклом для защиты от брызг Сливная бутылка в передней панели для облегчения доступа и мониторинга уровня заполнения

 

Доступные опции:

Крышка для дополнительных функций

Системы LabSpin можно оборудовать крышкой для изменения расположения сопла для нанесения фоторезиста, что позволит проводить нанесение по центру пластины, наносить покрытие на кромки и удалять наплывы материала с краев пластины. Для процессов проявления в крышку можно также вмонтировать систему нанесения проявителя и линию продувки азотом для сушки резиста.

 

Шприцевая система нанесения

Опция шприцевого нанесения под давлением является мощным инструментом для процессов с небольшим количеством фоторезиста или в которых требуется частая смена материала. Такая система позволяет использовать дорогостоящие материалы более экономно и эффективно.

 

Полностью автоматическая система нанесения

Полностью автоматическая система нанесения является прекрасным решением для покупателей, которым необходимо обрабатывать несколько пластин на устройстве с ручным управлением. Система нанесения устанавливается прямо на бутылку с фоторезистом. Высокая частота, а также оптимизированный объем нанесения позволяют уменьшить до минимума расход материала и сократить эксплуатационные расходы.

 

Нанесение покрытия на кромки пластины

Система LabSpin позволяет наносить покрытие на кромки пластины для лучшей защиты на всех шагах процесса. Нанесение покрытия на кромки возможно для пластин диаметром от 2 дюймов до 150 мм на системах LabSpin 6 и для пластин от 2 дюймов до 200 мм на системе LabSpin 8.

 

Удаление наплывов резиста с краев пластины (EBR)

Системы серии LabSpin позволяют удалять наплывы резиста с пластин диаметром от 2 дюймов до 150 мм или с пластин диаметром 200 мм при наличии регулируемого сопла для удаления наплывов. Опция EBR - распыления включает в себя полностью автоматическую систему нанесения для подачи растворителя.

 

Система нанесения проявителя

Система LabSpin может быть также настроена для процессов проявления наливом. Опция нанесения проявителя подключена напрямую к крышке, в качестве системы нанесения проявителя используется сосуд избыточного давления. Благодаря колебательным движениям держателя платформа LabSpin обеспечивает равномерные результаты обработки при более коротком времени процесса.

 

Сушка азотом

Данная опция позволяет высушить пластину после проявления и промывки деионизированной водой. Цифровой дисплей перед устройством позволяет контролировать поток азота.

 

Ножной выключатель

Для удобства запуска процесса в конфигурацию можно добавить ножной выключатель.

 

Технические характеристики:

Конфигурации
LabSpin6	Подложки до 150 мм круглые или 4 дюйма квадратные
LabSpin8	Подложки до 200 мм круглые или 6 дюймов квадратные
Версии
Отдельная система	Настольная версия (TT)
Для интеграции в стол	Версия для встраивания (BM)
Контроллер
ГИП	Сенсорная панель с цветным экраном
Макс. кол-во рецептов	200
Макс. кол-во шагов процесса	40
Программир. время шага	1 - 999 с
Двигатель	Бесщёточный ЕС - мотор с полым валом и защитным стеклом
Макс. скорость вращения	8 000 об/мин +/- 1 об/мин (с держателем 200 мм)
Макс. ускорение	4 000 об/мин/с
Безопасность
Цифровой вакуумметр	да
Автом. контроль вакуума	да
Контроль закрытой крышки	да
Требования
Питание	4.6 A / 2.5 A (115 В / 230 В)
Сжатый воздух	5 - 6 бар
Вакуум	мин. - 0.7 бар (опц.)
Азот	5 - 6 бар (опц.)
Габариты*
LabSpin 6 BM (Ш x Г x В)	320 x 310 x 415 мм3
LabSpin 8 BM (Ш x Г x В)	350 x 340 x 415 мм3
Контроллер (Ш x Г x В)	160 x 120 x 67 мм3
LabSpin 6 TT (Ш x Г x В)	320 x 425 x 420 мм3
LabSpin 8 TT (Ш x Г x В)	350 x 455 x 420 мм3

* без опций